PATTERN RESIN GC

GC Pattern Resin LS est une résine de modelage à faible rétraction, utilisée en laboratoire dentaire et au fauteuil pour la réalisation de modèles, patterns et structures de précision. GC la présente comme un matériau éprouvé pour de nombreuses indications de laboratoire et chairside, avec une manipulation adaptée aux situations de détail.

Elle est particulièrement indiquée pour les attachements, les couronnes coniques et télescopiques, les suprastructures implantaires, les techniques de transfert implantaire, les travaux de couronnes et bridges, les inlays/onlays, les prothèses partielles et les techniques d’électroformage.

La résine présente un comportement thixotrope qui améliore son écoulement et sa précision d’application, ainsi qu’une bonne mouillabilité facilitant le mélange et la pose. GC met aussi en avant sa faible rétraction de polymérisation, avec une valeur annoncée de 0,36 % après 30 minutes et 0,37 % après 24 heures.

Points forts

• Résine de modelage basse rétraction pour travaux prothétiques précis.

• Adaptée aux applications laboratoire et chairside.

• Indiquée pour attachements, couronnes télescopiques, transferts implantaires, suprastructures implantaires, inlays/onlays et prothèses partielles.

• Faible rétraction de polymérisation, utile pour les travaux nécessitant une grande précision.

• Temps de travail de 2 à 3 minutes à 23 °C.

• Temps de prise d’environ 4 minutes à 23 °C.

• Bonne résistance à la flexion, annoncée à 63 MPa après 10 minutes à 37 °C.

• Manipulation pratique au pinceau pour les détails, modèles et ajustages.

• Convient aux travaux de précision en implantologie, prothèse fixée et prothèse partielle.

Caractéristiques produit